行业资讯

电子级硫酸浓度在线分析仪

时间:2020-12-03 浏览:831次
分享:


  

  电子级硫酸又称高纯硫酸、超纯硫酸,属于超净高纯试剂,是一种微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化学试剂。目前广泛应用于大规模集成电路(IC)、半导体等微电子工业,用作清洗和蚀刻剂.随着中国微电子工业的高速发展,电子级硫酸的需求量日益增加,供不应求,电子级硫酸有着良好的应用前景.

  电子级硫酸主要应用于电子硅晶片生产过程的清洗和蚀刻。

  硅圆片在加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,可引起大规模集成电路产率下降50%左右。硅圆片上不溶性固体颗粒或金属离子可能在微细电路之间导电,使之短路,几个金属离子或灰尘足以使线宽较小的大规模集成电路报废。

  Na、Ca等碱金属杂质会融进氧化膜中,导致耐绝缘电压下降。当硅圆片表面附着有Cu、Fe、Cr、Ag等重金属杂质时,会使P—N结耐电压降低,影响大规模集成电路电性能。硼、磷、砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果,尘埃颗粒会造成光刻缺陷,氧化层不平整,影响制版质量和等离子蚀刻工艺。

  为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,必须除去各种沾污物,这需要使用非常纯净的化学试剂来清洗硅圆片,硫酸和过氧化氢按比例组成有强氧化性的SPM清洗液,在120~150℃下对硅片进行清洗时,可将金属氧化后溶于溶液中,并能把物氧化成CO2和H2O。它还可用于光刻过程中的湿法蚀刻去胶,借助于化学反应从硅圆片的表面除去固体物质,导致固体表面全部或局部溶解。

  硫酸在此处的作用是消除晶圆上的各种杂质,那么其本身肯定不能做为污染源再引入杂质,因此该工艺对于硫酸本身纯净度的要求也相当高。1975年,美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的电子级化学品制定了统一标准;1978年,德国的默克公司也制定了MOS标准。两种标准对电子级化学品中金属杂质和微粒(尘埃)的要求各有侧重,分别适用于不同级别IC的制作要求。

  E-Scan系列硫酸分析仪拥有以下特征:

  PTFE材质的传感器使其满足化工、半导体行业的要求并且耐温高达150℃;

  免维护、无耗材、无漂移、自诊断功能,智能报警信号输出功能;

  防护等级:NEMA4X(IP67);

  自动温度补偿(软件拥有丰富的产品线性数据库和温度补偿数据库);

  多组4-20ma模拟信号及数字信号输出(隔离,非隔离可选);

  3648高分辨率的CCD;

  多种报警信息输出显示(高低/高高/低低/偏差);

  可循环的干燥剂,无耗材,免维护;

  光源为589nmLED灯,寿命长达100000小时;

  安装适配器标准:PTFE、Alloy20合金、teflon;

  


版权所有:岷山环能高科股份公司   豫ICP备18031051号-3
提问题 看产品 看实力 联系我 回顶部