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电子级硫酸也是复杂芯片生产过程中不可缺少的试剂!

时间:2022-04-24 浏览:108次
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  电子级硫酸也是复杂芯片生产过程中不可缺少的试剂。

  硅片在加工过程中经常被不同的杂质污染。硅片上的不溶性固体颗粒或金属离子可能在微电路之间导电并短路。钠、钙等碱金属杂质也会融入氧化膜中,导致绝缘电压下降。硼、磷、砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果,粉尘颗粒会导致光刻缺陷、氧化层不均匀、制版质量和等离子蚀刻工艺。

  为了获得高质量的集成电路芯片,必须去除各种污垢,这需要使用非常纯化学试剂来清洁硅片。电子级硫酸和过氧化氢可以按比例形成强氧化剂SPM清洗液氧化有机物CO2和H2O。也可用于光刻过程中的湿蚀刻去胶,通过化学反应从硅片表面去除固体物质,导致固体表面完全或局部溶解。

  电子级硫酸在这里的作用是消除晶圆上的各种杂质,因此不能作为污染源引入杂质,因此该过程对电子级硫酸本身的纯度也有很高的要求。1975年,美国国际半导体设备与材料协会首先,制定了支持微电子工业的统一标准(SEMI标准);1978年,德国默克公司也制定了MOS标准。这两个标准侧重于电子化学品中金属杂质和颗粒(灰尘)的要求,分别适用于不同级别IC生产要求。

  E-Scan系列电子级电子级硫酸在线分析仪采用临界角检测原理,检测不受材料颜色、浊度、气泡、固体颗粒等杂质的影响,具有高精度的自动温度补偿功能。采用优良的分体式,全屏蔽抗干扰设计,直接转换光电信号。放弃了集成不耐振动和高温的缺点,保证了在线测量的精度,延长了仪器的使用寿命。内置光纤光路传导系统具有优异的抗震性能和高稳定性,内置温度传感器和干燥剂有效监测糖度计的运行状态。


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