电子化学品与下 游行业结合紧密，下 游行业的快速发展，势必要求电子化学品更新换代速度不断加快，企业科技研发水平与日俱增，电子化学品素有“一代材料、一代产品”之说，湿电子化学品更是如此。所以，湿电子化学品技术水平需要与下 游电子行业的发展趋势保持一致。
随着大规模集成电路存储容量的逐渐增大，存储器电池的蓄电量需要尽可能大，氧化膜变得更薄，而超净高纯试剂中的碱金属杂质会溶进氧化膜，导致耐绝缘电压下降；若重金属杂质附着在晶硅片的表面上，会使p-n结耐电压降低。杂质分子或离子的附着又是造成腐蚀或漏电等化学故障的主要原因。因此，随着大规模集成电路技术水平的发展，对湿电子化学品的质量要求也越来越高。
从技术趋势上看，满足纳米级集成电路制造和高世代平板显示生产的技术需
求和功能性需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。
目前，国外主要采用气体吸收法来生产电子级硫酸，该法适合大规模工业化生产，杂质去除率高，产品质量稳定，能耗低，能充分满足半导体工业的需求。
中国一些企业经过技术攻关，对气体吸收法进行改进，成功生产出超纯硫酸，产品质量达到了SEM大规模集成电路12标准。
