电子级硫酸也是复杂芯片生产过程中不可缺少的试剂。
硅片在加工过程中经常被不同的杂质污染。硅片上的不溶性固体颗粒或金属离子可能在微电路之间导电并短路。钠、钙等碱金属杂质也会融入氧化膜中，导致绝缘电压下降。硼、磷、砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果，粉尘颗粒会导致光刻缺陷、氧化层不均匀、制版质量和等离子蚀刻工艺。
为了获得高质量的集成电路芯片，必须去除各种污垢，这需要使用非常纯化学试剂来清洁硅片。电子级硫酸和过氧化氢可以按比例形成强氧化剂SPM清洗液氧化有机物CO2和H2O。也可用于光刻过程中的湿蚀刻去胶，通过化学反应从硅片表面去除固体物质，导致固体表面完全或局部溶解。
电子级硫酸在这里的作用是消除晶圆上的各种杂质，因此不能作为污染源引入杂质，因此该过程对电子级硫酸本身的纯度也有很高的要求。1975年，美国国际半导体设备与材料协会首先，制定了支持微电子工业的统一标准（SEMI标准)；1978年，德国默克公司也制定了MOS标准。这两个标准侧重于电子化学品中金属杂质和颗粒（灰尘）的要求，分别适用于不同级别IC生产要求。
E-Scan系列电子级电子级硫酸在线分析仪采用临界角检测原理，检测不受材料颜色、浊度、气泡、固体颗粒等杂质的影响，具有高精度的自动温度补偿功能。采用优良的分体式，全屏蔽抗干扰设计，直接转换光电信号。放弃了集成不耐振动和高温的缺点，保证了在线测量的精度，延长了仪器的使用寿命。内置光纤光路传导系统具有优异的抗震性能和高稳定性，内置温度传感器和干燥剂有效监测糖度计的运行状态。
